蒸发镀膜系统
授权
摘要
本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种蒸发镀膜系统，一种蒸发镀膜系统包括蒸发镀膜单元以及抽真空装置，蒸发镀膜单元设置有多个，多个蒸发镀膜单元分别通过管道与抽真空装置连通；各管道上分别设置有阀门组件，且用于控制蒸发镀膜单元与抽真空装置的连通与否。本申请中蒸发镀膜单元设置有多个，分别通过管道与抽真空装置连接，即利用一个抽真空装置可以同时对多个蒸发镀膜单元抽真空，从而提高蒸发镀膜的效率。另外，相比于现有技术中一个蒸发镀膜单元与一个抽真空装置配套使用，本申请不仅节省了设备成本，而且节省了占地面积。
基本信息
专利标题 ：
蒸发镀膜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921228795.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210856318U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
王君闫超颖粱惠朋汪友林
申请人 ：
沈阳爱科斯科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈北新区蒲河路83-42号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张伟
优先权 ：
CN201921228795.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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