一种蒸发装置及镀膜系统
授权
摘要

本实用新型属于镀膜技术领域,具体公开了一种蒸发装置及镀膜系统。蒸发装置包括:蒸发主体,所述蒸发主体上开设有蒸发腔、通气气道及出气口,所述通气气道的一端与所述蒸发腔连通,所述通气气道的另一端与所述出气口连通,所述蒸发腔用于放置待蒸发物;加热组件,包括设置在所述蒸发腔中的第一加热单元和设置在所述蒸发主体外壁上的第二加热单元,所述第一加热单元用于对所述待蒸发物进行加热,所述第二加热单元用于对所述通气气道中的气化气体进行加热。镀膜系统包括上述的蒸发装置。本实用新型公开的蒸发装置和镀膜系统,能够提高蒸发气化后气化气体的升温充分性,提高镀膜效果和镀膜效率。

基本信息
专利标题 :
一种蒸发装置及镀膜系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020349546.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-19
授权号 :
CN211897104U
授权日 :
2020-11-10
发明人 :
邓必龙郑利勇
申请人 :
龙鳞(深圳)新材料科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市坪山区坪山街道六联社区坪山大道2007号创新广场裙楼202
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
胡彬
优先权 :
CN202020349546.9
主分类号 :
C23C16/448
IPC分类号 :
C23C16/448  C23C16/54  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法,例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2020-11-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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