一种真空蒸发镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空蒸发镀膜装置，包括壳体和蒸发室，壳体的内底壁与蒸发室固定连接，蒸发室内部设置有加热设备，蒸发室的顶端开设有投射孔，壳体的内侧壁固定连接有固定板，固定板的一侧固定连接有齿条，齿条的表面啮合有齿轮，齿轮的内壁固定连接有电机，电机的两端转动连接有活动块，活动块远离固定板的一端固定连接有基板。本实用新型在镀膜完成后，冷气管通过电子阀向壳体内输入冷气进行降温，因外界的气压大于内部，通过单向阀防止外界的空气进入，当内部的气压大于外界时，内部的气体通过单向阀向外排气，同时温度检测仪检测排出气体的温度，当排出气体温度低于外界温度时，停止散热，达到提高散热效果的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种真空蒸发镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022042689.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
CN213327804U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
李长栋魏承亚魏俊杰
申请人 ：
山东沐东真空科技有限公司
申请人地址 ：
山东省聊城市阳谷县博济桥办事处谷山路南段（建委对过）
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022042689.8
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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