镀膜腔体及粉末镀膜装置

授权

摘要

本实用新型涉及一种镀膜腔体及粉末镀膜装置，镀膜腔体包括外腔体及收容于外腔体内的多个内腔体。在进行批量的粉末镀膜时，可将大量的粉末分配于多个内腔体内。这样，在总处理量不变的前提下，单个内腔体的体积将显著缩小，且每个内腔体内盛放的粉末的量将大大减小。因此，仅需较小流量的流化气便可使得每个内腔体内的粉末呈现出良好的流化状态。而且，多个内腔体采用分布式布置的方式设于环形收容腔，在总的容纳空间不变的前提下，多个内腔体的总表面积变大。而且，环形收容腔的内外两侧均可进行加热。因此，加热过程中可使内腔体受热更均匀，单个内腔体内粉末的温度一致性较好。因此，上述镀膜腔体及粉末镀膜装置能够显著改善量产时的镀膜效果。

基本信息

专利标题：

镀膜腔体及粉末镀膜装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021881048.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-01

授权号：

CN212533119U

授权日：

2021-02-12

发明人：

李翔许所昌邹嘉宸黎微明

申请人：

江苏微导纳米科技股份有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区漓江路11号

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

周昭

优先权：

CN202021881048.5

主分类号：

C23C16/442

IPC分类号：

C23C16/442 C23C16/455