一种粉末镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及原子层沉积技术领域，尤其是指一种粉末镀膜装置，包括粉末样品真空腔、抽气机构、加热器、物料瓶以及吹气机构，所述抽气机构用于对粉末样品真空腔抽气，所述加热器用于为粉末样品真空腔加热，所述物料瓶用于向粉末样品真空腔内提供镀膜的原料，所述吹气机构与粉末样品真空腔连通并且用于为粉末样品真空腔内提供流动气体。本实用新型提供的一种粉末镀膜装置，通过吹气机构对粉末样品真空腔内吹入流动气体，将粉末吹散，从而防止粉末团聚，进而可以使粉末表面均匀镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种粉末镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022143004.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213447297U
授权日 ：
2021-06-15
发明人 ：
李湘林李力
申请人 ：
东莞纳锋微电子装备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市松山湖园区学府路1号7栋208室
代理机构 ：
东莞市华南专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张明
优先权 ：
CN202022143004.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-06-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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