镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种镀膜装置，用于在太阳能电池片的制造过程中在太阳能电池片的基体片上镀减反膜，镀膜装置包括炉体、前法兰壁、后法兰壁和供气装置，其中，镀膜装置上设置有连通外界和容纳腔的至少两组进气孔，供气装置能够同时通过各组进气孔向容纳腔内供气，其中第一组进气孔设置在后法兰壁上，其他进气孔设置在炉体上或前法兰壁上。根据本实用新型，镀膜装置在炉体的不同位置处设置有进气孔，在制造减反膜的工艺中，供气装置能够经由各个进气孔同时向炉体内供气，以使得炉体内的各处气体均匀地发生反应，从而在位于炉体内的不同位置处的硅片上形成厚度均匀的减反膜。
基本信息
专利标题 ：
镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020145195.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-22
授权号 ：
CN212103000U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
王秀鹏姚骞刘世强王斯海张家峰王亚楠
申请人 ：
通威太阳能（眉山）有限公司
申请人地址 ：
四川省眉山市东坡区修文镇进修路8号附1号
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
刘迎春
优先权 ：
CN202020145195.X
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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