镀膜用基板支架、镀膜设备及镀膜方法

专利权的终止

摘要

本发明提供一种镀膜用基板支架、镀膜设备及一种镀膜方法。所述镀膜设备包括：一个镀膜腔；一个用于设置基板的基板支架；及至少一个膜料蒸发源。所述基板支架和膜料蒸发源都设于镀膜腔中。所述基板支架能够在一定角度范围内摆动，以在镀膜过程中改变基板与所述膜料蒸发源发出的蒸汽流之间的夹角。所述镀膜方法在镀膜过程中不断改变基板与膜料蒸发源产生的蒸汽流之间的夹角。所述镀膜设备及其镀膜方法在镀膜过程中能不断改变基板与所述膜料蒸发源发出的蒸汽流之间的夹角，使得光学薄膜光学性能基本各向同性，从而提高光学薄膜的光学性能。

基本信息

专利标题：

镀膜用基板支架、镀膜设备及镀膜方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101041889A

申请号：

CN200610034599.6

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2006-03-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

陈杰良

申请人：

鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司

申请人地址：

518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200610034599.6

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/54