镀膜支架
授权
摘要
一种镀膜支架用于使卷料在镀膜舱内被镀膜。该镀膜支架包括：一支架主体，其中该支架主体适于被容纳在该镀膜舱内；和至少一卷动装置，其中每该卷动装置包括：一上料元件，其中该上料元件被设置于该支架主体，用于可散开地收纳该卷料；和一收料元件，其中该收料元件被设置于该支架主体，并且该收料元件和该上料元件被间隔地布置，用于通过该收料元件卷动该卷料以将该卷料从该上料元件移动至该收料元件，使得该卷料在被卷动的过程中被分段地镀膜。
基本信息
专利标题 ：
镀膜支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021050748.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-09
授权号 ：
CN213417005U
授权日 ：
2021-06-11
发明人 ：
宗坚彭吉
申请人 ：
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 ：
宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
罗京
优先权 ：
CN202021050748.X
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-06-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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