一种玻璃基板镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及镀膜技术领域，特别涉及一种玻璃基板镀膜装置，包括蒸发源挡板、掩膜板和蒸发源，蒸发源挡板位于掩膜板和蒸发源之间，蒸发源挡板包括四个以上的遮挡板，四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，掩膜板上设有两个以上的缓冲条，两个以上的缓冲条将掩膜板划分成若干个无缓冲区域，一个遮挡板对应一个无缓冲区域，通过设置缓冲条，能够避免各器件叠加造成突起与玻璃基板不能完全重叠，引起混色问题；四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，以及缓冲条的配合，使得能够在一块玻璃基板上实现单色或全彩器件成膜，大大提高了器件研发过程中基板及材料消耗量，缩短了研发周期提高了设备利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种玻璃基板镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021952866.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
CN213803957U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
张麒麟
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市博深专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
颜丽蓉
优先权 ：
CN202021952866.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12 C23C14/04
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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