玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法
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摘要
一种玻璃基板清洗装置，其具备液体喷射机构(5)，所述液体喷射机构(5)以冲出存在于玻璃基板(3)的经研磨的端面(3a)的微小凹部内的异物所需要的喷射压力且不损伤玻璃基板(3)的喷射压力向该端面(3a)喷射清洗用液体(7)。液体喷射机构(5)优选构成为使清洗用液体(7)与玻璃基板(3)的经研磨的端面(3a)的整个区域直接接触，其喷射压力设定为9.8～24.5MPa。
基本信息
专利标题 ：
玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101060938A
申请号 ：
CN200680001199.3
公开（公告）日 ：
2007-10-24
申请日 ：
2006-02-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
西村直树奥村弘和
申请人 ：
日本电气硝子株式会社
申请人地址 ：
日本国滋贺县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李贵亮
优先权 ：
CN200680001199.3
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 C03C23/00 C03C19/00 G02F1/1333
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2012-10-31 ：
授权
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2007-10-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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