本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸发源机构以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源机构包括蒸发源装置、药液滴灌装置和同步加药装置，蒸发源装置至少设有两个，包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于蒸发腔内的坩埚，蒸发箱包于其侧壁开设与蒸发腔连通且与真空镀膜室对接的出料口，以及于其上壁开设与蒸发腔连通的加药口，药液滴灌装置至少设有两个，包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构，其中，各出药口分别用于将药液引落至一存药腔，同步加药装置用于一并驱动各出药口上下运动，以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔。各蒸发源装置能够同时完成加药作业，极大地提高了加药作业效率。