一种电子陶瓷连续式溅射镀膜设备，包括机体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与机体相连通，其特征在于所述机体由依次相邻、且相通的五个真空室构成，相邻的真空室之间设有隔离阀，所述五个真空室分别为预抽室、前过渡室、溅射室、后过渡室和减压室，在所述溅射室内装有相对布置的金属溅射靶，在机体内还设有相配合摩擦式工件传输装置和工件架，摩擦式工件传输装置能够将工件架输送到机体中，所述工件架能够依次送入五个真空室内，并能被输送出机体；机体外设有进片台、出片台和片架返回机构，所述的片架返回机构、进片台、摩擦式工件传输装置和出片台依次相联接成一个可连续传输工件架的环行传输线；本发明具有产量大、生产成本低、膜层均匀性好、结合力强、抗高温熔蚀等优点。