本实用新型提供一种内腔式连续磁控溅射镀膜设备，包括中空腔室以及传动结构，所述传动结构能够带动镀膜管从中空腔室的一端进入并由另一端穿出；而所述中空腔室由进管室、连续镀膜室以及出管室依次连通组成，在进管室的两端以及在出管室的两端分别设有真空密封阀，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封；在进管室、连续镀膜室以及出管室上分别设有抽气口，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别抽真空；所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述靶材通过电源线连接至外部电源，在连续镀膜室上设有贯通内外的布气管。本实用新型可提高靶材利用率，提高镀膜速度以及镀膜质量。