本实用新型涉及光伏设备技术领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜设备。本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜设备，包括清洗腔室和镀膜腔室，清洗腔室内设有等离子清洗装置，衬底采用等离子轰击方式清洗，不需要用到有机溶剂，等离子体可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，可以使得清洗效率获得极大的提高；同时避免使用有危害性的有机溶剂清洗剂，也避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施；并且第一样品台设有多个，这样单次抽真空就可以对多个衬底进行清洗和镀膜作业，与现有的每一个衬底的镀膜都开腔、关腔、抽真空的方式相比，减少了开关镀膜腔室的次数，提高了镀膜产出效率。