本方案涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及一种曲面基材磁控溅射镀膜装置。曲面基材磁控溅射镀膜装置包括真空腔、输送单元、阴极靶材和第一驱动装置，输送单元用于固定曲面基材并带动曲面基材在真空腔内移动，曲面基材的移动方向垂直于直母线；阴极靶材安装在真空腔室内朝向曲面基材的一侧表面，用于产生溅射粒子在曲面基材表面形成镀膜；第一驱动装置用于驱动阴极靶材靠近或远离曲面基材，使阴极靶材与曲面基材之间的距离保持不变。通过驱动装置调节阴极靶材靠近或远离曲面基材，保持恒定的靶基距，使得溅射粒子在浓度相同的情况下，磁控溅射镀膜沉积速率在基材表面保持恒定，提高整个曲面基材镀膜膜层的均匀性。