基材镀膜系统
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摘要

本申请公开了一种基材镀膜系统,包括供气机构、反应炉以及抽气机构,所述反应炉包括第一炉体,以及位于所述第一炉体内的第二炉体,所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔,所述第一炉体开设有排气口,所述第二炉体具有进气口与出气口;所述供气机构通过工艺气路与所述进气口相连通;所述抽气机构通过抽气管与所述排气口相连通,所述第二炉体连接有出气管,所述出气管的一端与所述出气口相连通,另一端穿过排气口并延伸至所述抽气管,且所述出气管与所述抽气管之间呈间隙配合,该间隙开放于所述中间腔,该方案相对于现有技术,抽气机构将第二炉体内的工艺气体抽出时,能够避免工艺气体对中间腔污染。

基本信息
专利标题 :
基材镀膜系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020912807.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-26
授权号 :
CN212834016U
授权日 :
2021-03-30
发明人 :
来华杭俞峰鲁天豪娄国明周海龙
申请人 :
浙江上方电子装备有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市滨海新城畅和路7号
代理机构 :
杭州合信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
沈自军
优先权 :
CN202020912807.3
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44  C23C16/455  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-03-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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