一种PVD镀膜基材承载装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种PVD镀膜基材承载装置，涉及PVD镀膜领域，包括装置主体，装置主体的顶部两侧均开设有滑槽，滑槽的内部连接有滑块。本实用新型通过设置有齿条、齿轮、转轴、转盘、滑块、支撑架、滑槽和转柄，当需要调节承载板的位置以便放置不同宽度的基材时，使用者通过转柄转动转盘，转盘转动带动转轴转动，转轴转动带动齿轮转动，齿轮转动以带动齿条移动，齿条移动带动承载板移动，承载板移动带动滑块和支撑架在滑槽内滑动，进而可调节承载板的间距，而由于夹持结构位于承载板上，承载板移动会带动夹持结构移动，从而调节夹持结构的位置，以便不同长度的基材可以放置在承载板上，并被夹持结构夹紧，进而提高了夹持结构的夹持范围。
基本信息
专利标题 ：
一种PVD镀膜基材承载装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021984881.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN213086099U
授权日 ：
2021-04-30
发明人 ：
张红星张小健樊天柱
申请人 ：
昆山市正行电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市千灯镇宏洋路12号4号房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021984881.2
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-04-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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