本申请公开了一种反应炉及基材镀膜系统，反应炉包括：第一炉体；位于所述第一炉体内的第二炉体，所述第二炉体的一端开设有与工艺气路相连通的进气口，另一端开设有与抽气管相连通的出气口，所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔；设置于所述中间腔内的调温装置；设置于所述第二炉体内并用于承托基材的置物台；与所述置物台连接并用于驱动置物台升降和旋转的驱动装置，该方案相对于现有技术，置物台通过旋转可实现基材镀层的全方位覆盖，使镀层均匀，同时置物台能够升降，保证基材在上下方向的均匀覆盖。