内腔式磁控溅射设备的传动结构
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摘要
本实用新型提供一种内腔式磁控溅射设备的传动结构，所述内腔式磁控溅射设备具有中空腔室，所述传动结构包括传动杆，所述传动杆穿入所述中空腔室内，两端分别从所述中空腔室中伸出，在传动杆的外表面设有传动螺纹，并且在传动杆上套设有与传动螺纹形成螺纹连接的传动支架，每根镀膜管凭借数个传动支架套置在传动杆上，而且所述镀膜管的重心低于传动杆的回转中心一定幅度或者在所述镀膜管内下部置入有配重装置，使镀膜管无法自转。传动杆旋转动作，传动支架带动镀膜管从传动杆的一端穿入所述中空腔室，然后从传动杆的另一端穿出所述中空腔室，并在穿过中空腔室的过程中完成磁控溅射镀膜。
基本信息
专利标题 ：
内腔式磁控溅射设备的传动结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920885885.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-12
授权号 ：
CN210826330U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
李峰薛道荣韩成明李强王先锋
申请人 ：
河北道荣新能源科技有限公司
申请人地址 ：
河北省邢台市威县经济开发区跨越路以东、信德路以北
代理机构 ：
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李林
优先权 ：
CN201920885885.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56 C23C14/16 C23C14/06 C23C14/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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