柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置
授权
摘要
本实用新型提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置,采用高低真空腔真空度隔离装置,利用高低真空度压力差,将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离,有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度;可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等成膜的生产制造中。
基本信息
专利标题 :
柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920686228.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-14
授权号 :
CN212640601U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
王鲁南窦立峰
申请人 :
南京汇金锦元光电材料有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市南京经济技术开发区兴学路9号2号楼
代理机构 :
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王清义
优先权 :
CN201920686228.9
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56 C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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