一种沉积DLC薄膜的磁控溅射镀膜机
授权
摘要
本实用新型是一种沉积DLC薄膜的磁控溅射镀膜机。在镀膜室的周边安装多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶，相邻两个靶的磁极性反向排列，镀膜室内形成闭合磁场。多个旋靶管型柱状非平衡磁控溅射靶的靶材成分有金属靶、化合物靶、石墨靶。镀膜室内还配置有阴极电弧源及与阴极电弧源配用的水冷阳极。在镀膜前用阴极电弧源产生的弧光等离子体中的电子流把氩气电离，用高密度的氩离子流清洗工件。在镀膜时先用金属靶材和化合物靶材镀过渡层膜，然后用石墨靶镀DLC膜。本实用新型适用于在耐磨零件上镀复合结构的DLC硬质涂层。提高高端加工产业中基础耐磨零件的寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种沉积DLC薄膜的磁控溅射镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921085726.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-12
授权号 ：
CN211367703U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
王福贞
申请人 ：
王福贞
申请人地址 ：
北京市朝阳区望京大西洋新城503楼1A室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921085726.4
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/35 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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