密封性强的磁控溅射镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了镀膜技术领域的密封性强的磁控溅射镀膜机；包括机体，其特征在于：机体的一侧固定侧壁固定连接有控制台，机体的内壁开设有镀膜槽，机体的一端侧壁开设有滑槽，滑槽的内壁滑动连接有滑门，机体靠近滑门一端的侧壁固定连接有控制按钮，镀膜槽的底部固定连接有正极，镀膜槽的顶部固定连接有发射端，镀膜槽相互远离两侧的顶端侧壁共同固定连接有承载板，承载板的顶部开设有放置槽，放置槽的顶部均匀贯穿开设有多个贯穿孔，放置槽与发射端的位置相匹配。本实用新型的有益效果是：本装置在进行磁控溅射镀膜作业时，可很好的对镀膜物品进行磁控溅射镀膜作业，同时在镀膜过程中无需频繁的上下料，避免破坏镀膜环境。
基本信息
专利标题 ：
密封性强的磁控溅射镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122850923.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-20
授权号 ：
CN216738509U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
崔福顺
申请人 ：
镇江三维真空光学有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市丹阳市云阳镇横塘（原横塘缫丝厂内）
代理机构 ：
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
华小明
优先权 ：
CN202122850923.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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