一种真空磁控溅射镀膜机
授权
摘要
本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架，所述工件架设置在所述真空箱体上端内部，所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接，所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆，所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘，所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆，所述工件杆为伸缩设置，所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架，所述工件安置架设置有中间杆以及分支架解决了传统工件架固定的，在不同的大小高度的物件，需要大小不同的工件架，这样容易造成工件架种类繁多，且造成工件架堆积，从而浪费资源的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种真空磁控溅射镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921820841.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN212357371U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
王军何茵
申请人 ：
浙江三海微纳科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号（嘉兴科技城）1号楼153室
代理机构 ：
重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
马晨博
优先权 ：
CN201921820841.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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