一种氧化膜电阻器用真空磁控溅射镀膜机
授权
摘要
本实用新型涉及电阻器技术领域，具体是一种氧化膜电阻器用真空磁控溅射镀膜机，包括磁悬浮分子泵、维持真空泵、罗茨真空泵、机械真空泵和工架；所述磁悬浮分子泵的左侧设置有升降电机，升降电机上安装有升降杆，升降杆的顶端转动安装有转盘，转盘的上端面设置有若干工件安装台；工件安装台包括放置板、装夹机构和卡块，装夹机构固定在放置板的上端面，放置板的下端面焊接固定有卡块，卡块卡装在转盘内，卡块与工架可拆卸连接。本实用新型结构简单、造价低廉，便于对现有设备进行改造，能够有效提高产品的真空磁控溅射镀膜加工效率，实用性极强。
基本信息
专利标题 ：
一种氧化膜电阻器用真空磁控溅射镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920403185.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-27
授权号 ：
CN209906875U
授权日 ：
2020-01-07
发明人 ：
杨江滨
申请人 ：
咸阳秦华特种电子元器件有限公司
申请人地址 ：
陕西省咸阳市渭城区咸红路2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920403185.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-01-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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