一种用于溅射镀膜的连续供气装置
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摘要
本实用新型公开了一种用于溅射镀膜的连续供气装置，包括主供气气路、备用供气气路、减压气路和监测气路，主供气气路和备用供气气路通过减压气路和监测气路与覆膜机连接，减压气路用于将主供气气路和备用供气气路进行降压，监测气路用于检测供入覆膜机的流量；本实用新型结构简单，实现了气体的连续供应，保证溅射镀膜时所需气体供应；增加三通阀和截止阀，排出更换气体时进入的空气，纯化了管路，保障了镀膜工艺，杜绝了空气瞬间进入工艺溅射区，减少了因气体杂质对镀膜工艺的影响。使用二次减压，主管路供气压力更为平稳，对后端电磁流量计冲击减小，保证了平稳的气体供应，从而确保了更为稳定的产品质量。
基本信息
专利标题 ：
一种用于溅射镀膜的连续供气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922301972.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-19
授权号 ：
CN211005594U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
郑利波
申请人 ：
苏州凯利昂光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市太仓市太仓港经济技术开发区华港路1号
代理机构 ：
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 ：
张涛
优先权 ：
CN201922301972.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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