本发明公开一种真空溅射镀膜装置，真空溅射镀膜装置包括进口室、进口缓冲室、进口过渡室、镀膜室、出口过渡室、出口缓冲室以及出片室，所述镀膜室内部设有镀膜腔，所述镀膜腔内设有用于基片通过的移动间隙，所述移动间隙的两侧均设置有溅射阴极，所述镀膜室内设有与用于装载基片的基片架连接的磁导向装置，以通过所述磁导向装置令所述基片架在所述移动间隙流转；所述镀膜腔内设置有阻挡件，所述阻挡件能够阻挡在所述溅射阴极和所述基片之间。本发明提供的真空溅射镀膜装置根本上解决了机械导向磨擦掉灰，机械导向阻力不均匀引起的卡滞、抖动现象，保证了基片架运行的平稳性、连续性，有效提升了所镀膜层的均匀性。