一种溅射镀膜抽真空系统
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摘要
为了解决真空设备工作时，由于箱体内部空间很大，仅仅使用扩散泵5对真空镀膜设备腔体抽真空需要花费的很长时间，生产效率低的问题，本实用新型提出一种溅射镀膜抽真空系统，包括真空室2、通过管道与真空室2连接的抽真空机构、真空检测机构和PLC控制系统1，当开机时，在抽低真空阶段，启动扩散泵5，关闭罗茨泵4和旋片泵3，在抽高真空阶段，旋片泵3、罗茨泵4和扩散泵5可以同时运行，这样就大大减少了抽低真空的时间，提高了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种溅射镀膜抽真空系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021071852.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-11
授权号 ：
CN212426174U
授权日 ：
2021-01-29
发明人 ：
李均平邹健向阳李永洲韩阳曹丽娟
申请人 ：
苏州锐世讯光学科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区黄桥街道大庄村大民路(东兴模具有限公司南侧200米)
代理机构 ：
苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
潘剑
优先权 ：
CN202021071852.7
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-01-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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