一种真空镀膜用真空室
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜用真空室，涉及真空镀膜技术领域，为解决现有的真空镀膜用真空室在使用时存取物料时间较长，严重占用大量生产时间，影响生产效率，且真空室的闭合较为复杂，影响生产的问题。所述真空仓的前端设置有密封槽，所述真空仓的两侧均安装有密封物料门，所述密封物料门与真空仓通过铰链连接，所述密封物料门的前端安装有橡胶密封凸台，所述橡胶密封凸台与密封物料门通过螺钉连接，所述密封物料门的前端安装有闭合铁片，所述闭合铁片与密封物料门通过螺钉连接，所述真空仓的前端安装有电磁铁，所述电磁铁与真空仓通过螺纹连接，所述真空仓的上端安装有安装块，所述安装块与真空仓通过螺钉连接。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜用真空室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021575278.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-03
授权号 ：
CN212770939U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
黄小玲王丽娟
申请人 ：
华鹭纳米材料科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区胜浦九江路1号第1幢101室、102室
代理机构 ：
苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
严明
优先权 ：
CN202021575278.9
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212770939U.PDF
PDF下载
