一种用于真空镀膜机的真空室
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于真空镀膜机的真空室，包括：真空腔体；波浪形遮挡板，其可拆卸连接在真空腔体的内壁上；主传动辊，其设置在真空腔体的下部居中的位置；所述真空腔体的上部左右对称设置放卷辊和收卷辊；三个镀膜靶材，其等距离地放置在主传动辊的外圆周围，且位于主传动辊的下方；本实用新型将真空腔体内部的遮挡板设置为波浪形遮挡板，其有效增加了挡板的整体面积，让挡板能更好、更多的吸附靶材材料，减少保养次数，从而增加设备有效生产时间。
基本信息
专利标题 ：
一种用于真空镀膜机的真空室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921210194.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210367888U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
胡向忠陈培专李仁龙魏昌华高翔
申请人 ：
绵阳金能移动能源有限公司
申请人地址 ：
四川省绵阳市涪城区凤凰中路8号
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
贾晓燕
优先权 ：
CN201921210194.2
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210367888U.PDF
PDF下载
