一种立式真空镀膜室
授权
摘要
本实用新型提供了一种立式真空镀膜室，包括镀膜室和物料架；镀膜室的顶部设有密封盖，镀膜室侧壁的上端设有进气口，下端设有出气口，出气口连接有抽真空管；镀膜室的底部安装有转动盘，转动盘的转轴通过联轴器与旋转电机的输出轴固定连接；物料架包括安装板和物料板；物料板上设有多个一一对应的通孔和凸块；安装板上固定有多个支撑杆，物料板与支撑杆固定连接；镀膜材料从上端的进气口进入镀膜腔之后向下扩散，在经过物料板时，对放置在物料板上或者吊挂在通孔下方的工件进行镀膜，能有效提高镀膜的均匀度，保证了镀膜质量。
基本信息
专利标题 ：
一种立式真空镀膜室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021952962.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
CN213232468U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
渠艳良李雷
申请人 ：
派珂纳米科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室
代理机构 ：
苏州创策知识产权代理有限公司
代理人 ：
范圆圆
优先权 ：
CN202021952962.4
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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