一种等离子表面真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种等离子表面真空镀膜设备，包括箱体，所述箱体底部的两侧均固定安装有支撑腿，所述箱体内部的下方固定安装有支撑板，所述支撑板顶部固定安装有加热架，所述加热架上设置有坩埚，所述箱体一侧的上方固定安装有安装箱，所述安装箱内壁的底部固定安装有第一电机，所述第一电机的驱动端固定安装有液压伸缩杆。该一种等离子表面真空镀膜设备，本实用通过箱体、支撑腿、支撑板、加热架、坩埚、安装箱、第一电机、液压伸缩杆、支撑架、盖板、横箱、固定板、基片和抽风机的配合使用，使得基片的取出及安装过程中，都可在箱体的外部进行操作，箱体内部的高温度，以及设备内外的压强差，都不会对操作人员产生任何的影响。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子表面真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122135148.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-06
授权号 ：
CN216155952U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
艾庆林
申请人 ：
东莞联兴光学科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汀山广场北二路6号2号楼501室
代理机构 ：
广州天河万研知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘强
优先权 ：
CN202122135148.4
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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