等离子表面冶金方法及设备
被视为撤回的申请
摘要
本发明是一种等离子表面冶金方法及设备，属表面冶金或表面化学热处理范畴，是在真空放电所形成的低温等离子体的条件下，利用双层或多层辉光放电现象，使被处理工件加热到高温，使欲渗元素溅射到工件表面，借助于扩散过程而形成包含有欲渗合金元素的具有特殊物理化学性能的合金扩散层。本方法可用于渗钨、钼、钛 铬、铝等。如，渗铬层厚度达300μm，其含铬量达20％以上。故可用普通金属材料取代价格昂贵的高合金材料。
基本信息
专利标题 ：
等离子表面冶金方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85102057A
申请号 ：
CN85102057
公开（公告）日 ：
1985-12-20
申请日 ：
1985-04-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐重古凤英王振民孙梅琴潘俊德范本惠韩廷华郑维能
申请人 ：
太原工业大学
申请人地址 ：
山西省太原市河西区迎泽西大街11号
代理机构 ：
太原专利事务所
代理人 ：
樊华
优先权 ：
CN85102057
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
1988-01-13 ：
被视为撤回的申请
1986-09-24 ：
实质审查请求
1985-12-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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