用余辉等离子体清洗表面的方法
专利申请的视为撤回
摘要
本发明是将待清洗的物品(10)在一种余辉低温等离子体作用下清洗。其方法是将该物品放在由微波放电等产生低温等离子体装置的膨胀室(7)中。生成等离子体的气体最好是含有小比例量的氟化或氯化化合物(特别是三氟化氮)的氮气和氧气的混合物。本发明适用于清洗不锈钢，陶瓷，瓷料或玻璃制品，其方法是将其污染物如润滑油及油脂加以分解而达到清洗。本发明特别适用于核工业中的工具清洗。
基本信息
专利标题 ：
用余辉等离子体清洗表面的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1038036A
申请号 ：
CN89103142.1
公开（公告）日 ：
1989-12-20
申请日 ：
1989-05-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
地萨斯·欧得莱穆泰尔·伯革特苏瑞明斯基·丹尼尔
申请人 ：
公共供应公司
申请人地址 ：
法国莫丽日
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
戴真秀
优先权 ：
CN89103142.1
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 H05H1/24 C23F4/00 G21F9/28
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
1993-02-10 ：
专利申请的视为撤回
1991-08-28 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1989-12-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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