一种等离子体增强清洗装置及清洗方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种等离子体增强清洗装置,用于清洗待处理产品,包括真空腔室、等离子体发生器、安装部、脉冲偏压电源,真空腔室具有进气口和出气口,离子体发生器包括呈空腔的本体部,本体部具有上部和下部,上部和下部相对设置且均设有若干镂空部;安装部伸入所述真空腔室内以供等离子体发生器进行安装;脉冲偏压电源的正极与真空腔室电连接形成阳极,脉冲偏压电源的负极与等离子体发生器电连接。该等离子体增强清洗装置能形成伞状辉光等离子体,增强上下轰击,提高对异型治具、大钻、PCB特刀、深刀槽刀具等产品的清洁能力,可进行横向和纵向的深度辉光清洗,整体提升产品各个面的清洗和活化效果。本发明还提供一种清洗方法。

基本信息
专利标题 :
一种等离子体增强清洗装置及清洗方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114438441A
申请号 :
CN202111681333.1
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
曹时义王俊锋袁明
申请人 :
广东鼎泰高科技术股份有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市厚街镇赤岭工业一环路12号之一2号楼102室
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
侯柏龙
优先权 :
CN202111681333.1
主分类号 :
C23C14/02
IPC分类号 :
C23C14/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/02
申请日 : 20211230
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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