一种高分子等离子表面真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种高分子等离子表面真空镀膜设备,包括腔体、基板和坩埚,腔体底部的四角均固定连接有支撑腿,腔体的正面转动连接有密封门,腔体内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板,支撑板的顶部固定连接有防护框,防护框内壁的两侧均固定连接有第一滑轨,本实用新型涉及真空镀膜技术领域。该高分子等离子表面真空镀膜设备,当镀膜工作完成后,可以将坩埚密封在防护框内,这样就可以及时打开密封门,将基板取出准备下一次镀膜,能够有效防止镀膜材料喷溅,且省去坩埚降温的时间,提高了工作效率,电机工作能够调整两个限位板之间的距离,使其能够固定不同大小的基板,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性。
基本信息
专利标题 :
一种高分子等离子表面真空镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921473460.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-06
授权号 :
CN210886196U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
常江常满陈国奇汪洋
申请人 :
成都市江泰真空镀膜科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市武侯区高新区永丰路22号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921473460.0
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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