一种真空磁控溅射镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种真空磁控溅射镀膜装置，包括溅射室、进气机构、出气机构，出气机构设在溅射室内，出气机构与进气机构连通用于向溅射室内输送工艺气体，出气机构包括相对设置的第一出气组件、第二出气组件，第一出气组件、第二出气组件的延伸方向平行，且延伸方向与玻璃传送方向垂直；第一出气组件包括多个依次连接的第一出气部，相邻两个第一出气部不连通；第二出气组件包括多个依次连接的第二出气部，相邻两个第二出气部不连通，第一出气部、第二出气部上均开设有出气孔。本实用新型提供的装置，通过设置第一出气组件、第二出气组件，使工艺气体分布均匀，均匀性调试精度提高，提升靶材溅射均匀性，保证产品质量。
基本信息
专利标题 ：
一种真空磁控溅射镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122627493.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-29
授权号 ：
CN216360512U
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
吴壮赵习军余华骏解孝辉张青涛
申请人 ：
吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江市经济开发区庞金路
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
樊晓娜
优先权 ：
CN202122627493.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-04-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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