本发明公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括镀膜机构，其固定设置在支架上部；调节辊，其对称设置在镀膜机构下部；清洁块，其与容置槽相配合，且活动设置在容置槽内，并可沿容置槽轴向方向往复运动；侧刮板和正刮板，其活动设置在清洁块上，且分别与容置槽的侧面和底面紧密贴合。本发明通过镀膜机构阴极发射口对称设置调节辊，通过调节调节辊之间距离来实现对镀膜间隙宽度的调节，同时在调节辊上环形阵列多组凸块，并且凸块之间形成容置槽，超出镀膜间隙的溅射无落入到容置槽内，由于容置槽内设置了能够进行往复运动的清洁块，清洁块在往复运动的过程实现对沉积物的去除，在镀膜过程中就能实现清洁。