玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架
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摘要
玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架，包括工件架主体、固定钢丝、支撑杆、限位缺口，所述工件架主体由横杆与纵杆构成，所述横杆与纵杆之间呈90°角固定连接，所述横杆与纵杆的前端面与后端面分别平齐，所述纵杆的上端、下端分别设有固定钢丝与支撑杆，所述支撑杆与纵杆垂直设置，所述支撑杆上设有限位缺口。本实用新型的优点在于：取消了胶带固定，有效提高了作业效率和良品率，通过在纵杆底部设置支撑杆，并在支撑杆上开设有三角形的限位缺口，顶部设有固定钢丝，镀膜时将玻璃底部卡在限位缺口内，顶部由固定钢丝限位，由于固定钢丝直径较小、强度较大，既可以防止运动过程中玻璃掉落，又可以使溅射中的原子颗粒可以绕过固定钢丝，保证镀层的均匀。
基本信息
专利标题 ：
玻璃立式磁控溅射镀膜专用工件架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921227277.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-31
授权号 ：
CN210314470U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
余峰伟
申请人 ：
天津格兰德科技有限公司
申请人地址 ：
天津市西青区西青经济技术开发区赛达国际工业城D7-3座
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921227277.2
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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