一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架
授权
摘要
本实用新型公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。
基本信息
专利标题 ：
一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022138272.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213476090U
授权日 ：
2021-06-18
发明人 ：
李国强舒逸刘光斗李赞
申请人 ：
湖南玉丰真空科学技术有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市湘潭九华示范区大众东路2号
代理机构 ：
湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张文
优先权 ：
CN202022138272.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-06-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
