阴极溅射靶及溅射镀膜装置
授权
摘要
本实用新型属于真空镀膜技术领域，提供一种阴极溅射靶、溅射镀膜装置，包括：至少两个旋转阴极，所述旋转阴极上安装有旋转靶；阴极安装腔，用于安装所述旋转阴极；溅射用容纳壳体，所述阴极安装腔、所述旋转阴极分别设置在所述溅射用容纳壳体内；驱动组件，所述驱动组件驱动阴极安装腔沿溅射用容纳壳体轴心线旋转；所述溅射用容纳壳体一端设置有工作侧密封面，另一端设置有维护门，所述工作侧密封面上设置有开口。从而实现在镀膜过程中同一真空环境下阴极更换及满足多种材料形成镀膜的实际需求。
基本信息
专利标题 ：
阴极溅射靶及溅射镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020191319.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-21
授权号 ：
CN212335274U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
闫海涛刘亮
申请人 ：
布勒莱宝光学设备（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区永昌南路2号5号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020191319.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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