一种空心阴极磁控溅射靶

授权

摘要

本实用新型公开了一种空心阴极磁控溅射靶，包括密封管和绝缘套，绝缘套通过内六角螺栓固定安装于密封管的外部，密封管的内部开设有镀膜腔，且密封管的侧壁内开设有水冷腔，靶安装口的上侧壁开设有管接头，环形磁铁之间交替固定安装有铁轭，采用空心阴极方式，靶材为圆筒型，被镀材料安装在圆筒的中心区域，镀膜材料进行轴向运动，靶材实现向心溅射。与市面上普遍采用的磁控靶相比，它起辉稳定，不放电，不拉弧，且能镀各种形状材料，均匀性好，可以实现更完美的真空镀膜，空心阴极被称为是未来的镀膜技术，几个重大技术问题的存在阻碍了它的普遍采用，不过这种情况会慢慢发生了改变。

基本信息

专利标题：

一种空心阴极磁控溅射靶

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921520017.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-12

授权号：

CN210481507U

授权日：

2020-05-08

发明人：

钱进韩晓

申请人：

沈阳奇汇真空技术有限公司

申请人地址：

辽宁省沈阳市沈北新区蒲文路16-69号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921520017.4

主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/35