磁场可调的磁控溅射阴极

授权

摘要

本实用新型公开了一种磁场可调的磁控溅射阴极，包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板，磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成，每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接，调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱，调节螺母转动连接在固定底板上，调节螺杆与调节螺母螺纹连接，调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接，固定底板上设有导向孔，导向柱一端与独立磁场模块固定连接，另一端与导向孔配合。本实用新型将磁体装置在高度方向上分成多段独立磁场模块，每块独立磁场模块均可通过调节螺母来实现前后移动，从而调节磁场前后的距离，实现高度方向上不同区域膜厚不一致的工艺生产要求。

基本信息

专利标题：

磁场可调的磁控溅射阴极

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022138296.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-25

授权号：

CN213476088U

授权日：

2021-06-18

发明人：

李国强舒逸刘光斗李赞

申请人：

湖南玉丰真空科学技术有限公司

申请人地址：

湖南省湘潭市湘潭九华示范区大众东路2号

代理机构：

湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张文

优先权：

CN202022138296.7

主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/35