一种磁控溅射用旋转阴极
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摘要
一种磁控溅射用旋转阴极，其特征在于，包括底板，所述底板上设有支撑座和限位固定座，所述支撑座和所述限位固定座支撑旋转阴极，所述旋转阴极设有阴极柱，所述阴极柱套接有冷却管，所述冷却管底端连接活动座且顶端连接密封盖；所述支撑座上设有滑槽，所述滑槽内设有转轴，所述转轴穿过所述活动座位，所述滑槽内设有顶块，所述顶块和所述滑槽之间设有弹簧；所述支撑座内设有驱动机构，所述驱动机构在所述支撑座底部设有电机，所述电机的转动轴上设有传动轮，所述传动轮上方设有与之啮合的驱动轮，所述驱动轮通过支撑轴设在支撑座内。本实用新型结构简单，便于安装、维修替换，且替换冷却液方便。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射用旋转阴极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020751365.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-08
授权号 ：
CN212335275U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
张君春孙法鋆卞勇方赟
申请人 ：
南京仁创智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区陶吴工业园乐园路5号
代理机构 ：
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
金迪
优先权 ：
CN202020751365.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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