本实用新型公开了一种高效率磁控溅射平面阴极，包括靶材和磁场发生装置，磁场发生装置包括磁轭和设置在靶材与磁轭之间的双磁路磁体装置，双磁路磁体装置包括两组主磁体装置和两组辅助磁体装置，主磁体装置包括端部磁体和主磁体，两组主磁体相邻设置在磁轭上表面中部位置，主磁体的磁化极轴方向均与靶材水平。本实用新型通过设置相邻的主磁体，展宽了靶材上方的可溅射区域，使靶材上方磁场强度分布更均匀，从而提高了靶材的利用率，增强了靶材上方的等离子密度，能够提高溅射速率，从而提高薄膜沉积速率，降低镀膜成本。