一种高功率平面磁控溅射阴极

避免重复授权放弃专利权

摘要

一种高功率平面磁控溅射阴极，它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有的平面磁控溅射阴极其磁铁浸泡在水中，用久了会消磁等技术问题。其技术方案要点是：它由包括阴极体(4)、靶材(1)和磁铁构成，靶材(1)安装在阴极体(4)的上部，在阴极体(4)的内腔内设置有密闭的冷却通道(2)，在阴极体(4)内腔内其底部与冷却通道(2)之间设置有磁靴(5)，在冷却通道(2)与磁靴(5)之间设置有磁铁(3)。它通过在阴极体内部设置一个独立的冷却通道，从而使磁铁不与冷却媒介接触，避免永久磁铁被冷却媒介腐蚀；并通过设计具有高导热性能材料制成的热传导板与靶材大面积接触，从而可使靶材得到充分的冷却，使阴极能承受更高的功率。它可广泛应用于真空磁控溅射镀膜设备上。

基本信息

专利标题：

一种高功率平面磁控溅射阴极

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820158802.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-10-17

授权号：

CN201301339Y

授权日：

2009-09-02

发明人：

陈理李国强

申请人：

湖南玉丰真空科学技术有限公司

申请人地址：

411100湖南省湘潭市雨湖区草塘路26号

代理机构：

湘潭市雨湖区创汇知识产权代理事务所

代理人：

左祝安

优先权：

CN200820158802.5

主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/35