磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头
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摘要

本实用新型提供了一种磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头,包括用于承载靶材的法兰以及端部与法兰连接的旋转轴,所述旋转轴为中空结构且内部设置有伸入法兰的水管,所述水管的空腔与水管和旋转轴之间的间隙连通构成冷却水循环通道,所述法兰的内周面设置有环形凸起,所述水管上套设有可沿轴向滑动的环形接头以及抵住环形接头使其与环形凸起密封配合的复位弹簧,所述环形接头与水管之间具有供冷却水通过的间隙。本实用新型的环形接头设于旋转轴的内部,使得端头整体结构更加紧凑,另外当法兰和环形接头相对转动而出现磨损,复位弹簧也可以推动环形接头复位,让两者始终保持密封配合,避免经常更换。

基本信息
专利标题 :
磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922071135.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-26
授权号 :
CN211814636U
授权日 :
2020-10-30
发明人 :
刘杰来华杭施成亮周海龙俞峰
申请人 :
浙江上方电子装备有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市滨海新城畅和路7号
代理机构 :
杭州合信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
沈自军
优先权 :
CN201922071135.8
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2020-10-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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