一种镀膜用平面溅射靶
授权
摘要
本实用新型提供一种镀膜用平面溅射靶，涉及溅射靶技术领域，包括靶体，靶体的外表面中心处固定安装有固定圈，固定圈上呈环形等距固定插设有多个固定机构，且多个固定机构的顶部均滑动插设有连接帽。本实用新型，向里侧按压固定柱，将固定机构穿过安装溅射靶的安装机构上的安装孔，将连接帽套在柱壳上，松开固定柱，滑动连接帽，当连接帽上安装通孔与固定柱相对其的时候，复位弹簧使固定柱复位，穿过连接帽上的安装通孔，将装置进行固定，直接进行套设，使安装的力度一样，防止出现一侧安装过紧导致另一侧无法安装的情况，平面溅射靶在安装的时候，直接进行套设，使安装的力度一样，防止出现一侧安装过紧导致另一侧安装起来非常麻烦。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用平面溅射靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020666171.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212894946U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
张金兴
申请人 ：
遵化市富森钛金设备有限公司
申请人地址 ：
河北省唐山市遵化市经济开发区龙山工业园
代理机构 ：
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹均利
优先权 ：
CN202020666171.9
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212894946U.PDF
PDF下载
