玻璃镀膜设备及其平面阴极
授权
摘要
本申请属于玻璃镀膜技术领域，尤其涉及一种玻璃镀膜设备及其平面阴极，该平面阴极包括阴极背板和至少两个平面靶材，阴极背板具有安装面，各平面靶材均安装于安装面上，各平面靶材间隔设置，相邻的两个平面靶材之间均形成有间隙槽，相邻的两个平面靶材彼此相对的端面设置有第一凸起和第二凸起，在沿垂直于安装面的方向上，第一凸起和第二凸起上下设置，第一凸起的凸伸高度与第二凸起的凸伸高度之和大于等于间隙槽的槽宽。该平面阴极相邻两个平面靶材拼接时不会出现由上而下垂直贯穿的缝隙，这样溅射气体不会通过垂直缝隙对阴极背板的侵蚀，也解决了阴极靶材背板受长时间溅射而被侵蚀损坏的问题，有效的提升了平面阴极的寿命，提高了镀膜产品质量。
基本信息
专利标题 ：
玻璃镀膜设备及其平面阴极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021103582.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-15
授权号 ：
CN212476870U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
董清世陈大伟
申请人 ：
信义玻璃（天津）有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区天津新技术产业园区武清开发区
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
李金伟
优先权 ：
CN202021103582.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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