带运动磁板平面阴极的磁材镀膜生产线
授权
摘要
本实用新型涉及带运动磁板平面阴极的磁材镀膜生产线，包括沿着磁材运行路径设置的至少两个低真空室、至少两个高真空室、镀膜室，安装在镀膜室的运动机构和动力装置；镀膜室的两侧分别至少设置一个低真空室和至少设置一个高真空室；平面阴极包括磁板，安装在磁板上的多个磁钢，位于磁钢下方的靶材；动力装置的输出端连接在运动机构上，运动机构的输出端连接在磁板上。磁材镀膜生产线大幅提高靶材利用率，既降低稀有材料的消耗，也实现高性能、低成本的产业化应用，属于真空镀膜设备技术领域。
基本信息
专利标题 ：
带运动磁板平面阴极的磁材镀膜生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921995344.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-19
授权号 ：
CN210886212U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
朱刚毅朱刚劲朱文廓
申请人 ：
广东腾胜科技创新有限公司
申请人地址 ：
广东省肇庆市三榕工业开发区泰隆包装机械有限公司厂房西8卡之二
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
官国鹏
优先权 ：
CN201921995344.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/14 H01F41/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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