磁控真空镀膜机

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摘要

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，公开了磁控真空镀膜机，包括镀膜机座，镀膜机座上侧设有调节控制箱，镀膜机座的上方纵向设有与调节控制箱连接无底的镀膜机箱，镀膜机箱内的上侧设有与调节控制箱配合的磁控溅射装置，镀膜机箱下端的前后侧均设有与其密闭配合的镀膜机盖，且镀膜机盖内侧设有真空吸盘，镀膜机座上设有将镀膜机箱内腔抽真空的真空发生装置，镀膜机箱内横向设有圆环形镀膜隔板，圆环形镀膜隔板的内侧铰接有与其密闭配合可纵向翻转的镀膜翻板，圆环形镀膜隔板上设有带动镀膜隔板翻转的动力装置。本实用新型解决了现有磁控真空镀膜机在进行基片镀膜时，基片表面薄膜厚度不均匀的问题。

基本信息

专利标题：

磁控真空镀膜机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921885704.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-04

授权号：

CN210886201U

授权日：

2020-06-30

发明人：

吴炳照

申请人：

无锡福照玻璃镜业有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园石榴路9号

代理机构：

无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

姬颖敏

优先权：

CN201921885704.6

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34